台風21号が日本を通過しております。 今朝の出社時は風が強く、傘をさせませんでした。 長岡近辺でも河川の増水で通行止めになっている橋があるようです。皆様お住いの地域は大丈夫でしょうか。
さて、シナノ精機では、株式会社MTK様のオゾン水生成装置をOEM製造しております。
MTK社のオゾン水生成装置には、以下のようなメリットがあります。
* オゾン濃度が高い
最大オゾン濃度100ppm
* オゾン水中に金属不純物がなく、金属コンタミが無い
オゾン水生成部はフッ素樹脂パーツで構成され、オゾンガス発生は無声放電方を採用、接続部に金属を使用していない。
* オゾン濃度の立ち上がりが早い
約1分以内で最大オゾン濃度に到達。
* 機器が小型でフットプリントが小さい
例）幅400mm 奥行550mm 高820mm（様。30ppm、5L/min仕様）
* 他社に比べ価格が安い
コンパクト、高性能でありながら低価格
オゾン水は洗浄能力に優れ、フッ素に次ぐ高い酸化還元電位を持つため、多くの不純物を酸化・分解することができます。 例えば有機物を酸化してCO2ガスとして除去します。またシリコン表面を酸化して、Sio2膜を形成し洗浄後にシミ残りのない働きをします。
また、半導体ウエハの洗浄用には現在SC1（アンモニア/過酸化水素）、硫酸、塩酸などで高価な薬品が使用されていますが、オゾン水と希フッ酸をこれらの薬液に代替使用することで、コスト削減とパーティクル、金属不純物の除去性能向上が可能となります。
MTK社では、オゾン水による不純物除去メカニズムをご紹介しています。
オゾン水やオゾンガスの用途は幅広く、半導体等の精密機械のみならず、医薬品、食品にも使われています。オゾンノ酸化力や有機物を分解する作用により洗浄、手洗い、脱色、脱臭に抜群の効果があります。