沿革
沿革
1988年 5月 有限会社 シナノ精機設立
自動ウエハー搬送装置の配線組立、調整業務開始
1989年 1月 縦型ＣＶＤ装置の配線組立、調整作業開始
1990年11月 青森工場設立操業開始
1991年 4月 枚葉式プラズマＣＶＤ装置の配線組立業務開始
1992年 6月 自動テーピング機の設計製作、据付調整業務開始
1993年 9月 事業規模縮小により青森工場閉鎖
1994年 3月 ハードデスクラッピング装置の組立業務開始
1996年10月 超高真空減圧ＣＶＤ装置の組立業務開始
1997年 1月 液晶用スパッタリング装置の組立開始
液晶用洗浄装置の組立開始
2002年 8月 スピンエッチャー用薬液供給装置の組立開始
2004年 1月 スピンエッチャー装置の組立検査開始
2004年 8月 本社にてISO14001認証取得
2004年 9月 本社・工場、長岡市南陽２丁目（南部工業団地）へ移転
2005年 7月 組織変更により株式会社 シナノ精機に社名変更
2008年 3月 有機EL用スパッタリング装置／蒸着装置の組立開始
2008年 7月 有機EL用加熱・冷却装置の組立開始
2009年 9月 水ジェット誘導式レーザー加工機開発開始
2010年 1月 レーザー＋ブレード ハイブリッドダイシング装置組立開始