シナノ精機の沿革
| 1988年 5月 | 有限会社 シナノ精機設立 自動ウエハー搬送装置の配線組立、調整業務開始 |
| 1989年 1月 | 縦型ＣＶＤ装置の配線組立、調整作業開始 |
| 1991年 4月 | 葉式プラズマＣＶＤ装置の配線組立業務開始 |
| 1992年 6月 | 自動テーピング機の設計製作、据付調整業務開始 |
| 1994年 3月 | ハードデスクラッピング装置の組立業務開始 |
| 1996年10月 | 超高真空減圧ＣＶＤ装置の組立業務開始 |
| 1997年 1月 | 液晶用スパッタリング装置の組立開始 液晶用洗浄装置の組立開始 |
| 2002年 8月 | スピンエッチャー用薬液供給装置の組立開始 |
| 2004年 1月 | スピンエッチャー装置の組立検査開始 |
| 2004年 8月 | 本社にてISO14001認証取得 |
| 2004年 9月 | 本社・工場、長岡市南陽２丁目（南部工業団地）へ移転 |
| 2005年 7月 | 組織変更により株式会社 シナノ精機に社名変更 |
| 2008年 3月 | 有機EL用スパッタリング装置／蒸着装置の組立開始 |
| 2008年 7月 | 有機EL用加熱・冷却装置の組立開始 |
| 2009年 9月 | 水ジェット誘導式レーザー加工機開発開始 |
| 2010年 1月 | レーザー＋ブレード ハイブリッドダイシング装置組立開始 |
| 2011年 2月 | 真空装置用イオンガン組立開始 |
| 2013年 3月 | 半導体装置ガス配管用ステンレス配管制作開始 |